名稱:脈沖激光沉積系統(tǒng)
品牌:Neocera
產地:美國
型號:Pioneer 180 PLD System
Neocera Pioneer 系列 PLD 系統(tǒng)— 基于卓越經(jīng)驗的創(chuàng)新設計Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究,建立了獲得薄膜質量的臨界參數(shù),特別適用于沉積復雜氧化物薄膜。這些思考已經(jīng)應用于Pioneer 系統(tǒng)的設計之中。
? 很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧壓(>100 Torr)下冷卻可獲得更高的質量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能(壓力范圍可從額定初始壓強到大氣壓)。這也有益于納米粒子的生成。
? Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°,保持了激光密度在靶材上的最大均勻性,同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點,導致密度均勻性的損失。
? 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵,消除油的回流對薄膜質量的影響,所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油泵系統(tǒng)。
? 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得薄膜質量的關鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離,以達到最優(yōu)的沉積條件。
| Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A |
最大wafer 直徑 | 8” | 6” | 2” |
最大靶材數(shù)量 | 6 個1” 或3 個2” | 6 個1” 或3 個2” | 6 個1” 或3 個2” |
壓力(Torr) * | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
真空室直徑 | 24” | 18” | 12” |
基片加熱器 | 360°旋轉 | 360°旋轉 | 360°旋轉 |
最高樣品溫度 | 850 ℃ | 850 ℃(升級1000 ℃) | 950 ℃ |
Turbo 泵抽速* | 700 軟件控制 | 400 軟件控制 | 260 軟件控制 |
計算機控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋轉 | 包括 | 包括 | 選件 |
基片預真空室 | 包括 | 選件 | 選件 |
掃描激光束系統(tǒng) | 包括 | 選件 | - |
靶預真空室 | 包括 | 選件 | - |
IBAD 離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 |
CCS 連續(xù)組成擴展 | 選件 | 選件 | - |
高壓RHEED | 選件 | 選件 | 選件 |
520 liters/sec 泵 | N/A | 選件 | - |
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