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脈沖激光沉積系統(tǒng)(Pioneer 180 PLD System)

作者:北京正通遠恒科技有限公司
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名稱:脈沖激光沉積系統(tǒng)

品牌:Neocera
產地:美國
型號Pioneer 180 PLD System


Neocera Pioneer 系列 PLD 系統(tǒng)— 基于卓越經(jīng)驗的創(chuàng)新設計Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究,建立了獲得薄膜質量的臨界參數(shù),特別適用于沉積復雜氧化物薄膜。這些思考已經(jīng)應用于Pioneer 系統(tǒng)的設計之中。
? 很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧壓(>100 Torr)下冷卻可獲得更高的質量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能(壓力范圍可從額定初始壓強到大氣壓)。這也有益于納米粒子的生成。
? Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°,保持了激光密度在靶材上的最大均勻性,同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點,導致密度均勻性的損失。
? 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵,消除油的回流對薄膜質量的影響,所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油泵系統(tǒng)。
? 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得薄膜質量的關鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離,以達到最優(yōu)的沉積條件。


Pioneer240

Pioneer180

 Pioneer120A

最大wafer 直徑

8

6

2

最大靶材數(shù)量

6 1” 或3 2

6 1” 或3 2

6 1” 或3 2

壓力(Torr) *

5*10-8

5*10-9

5*10-9

真空室直徑

24

18

12

基片加熱器

360°旋轉

360°旋轉

360°旋轉

最高樣品溫度

850

850 ℃(升級1000 

950

Turbo 泵抽速*
liters/sec

700

軟件控制

400

軟件控制

260

軟件控制

計算機控制

包括

包括

包括

基片旋轉

包括

包括

選件

基片預真空室

包括

選件

選件

掃描激光束系統(tǒng)

包括

選件

-

靶預真空室

包括

選件

-

IBAD 離子束輔助沉積

選件

選件

選件

CCS 連續(xù)組成擴展

選件

選件

-

高壓RHEED

選件

選件

選件

520 liters/sec

N/A

選件

-

... ...

脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition)是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源(脈沖激光)位于真空室的外面。這樣,在材料合成時,工作壓力的動態(tài)范圍很寬,達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度,可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。另外,PLD 是一種“ 數(shù)字” 技術,在納米尺度上進行工藝控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 設備與工藝開發(fā)方面具有卓越的經(jīng)驗
? Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領域廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
? Neocera 不僅為客戶提供最基本的PLD 系統(tǒng),也提供完整的PLD 實驗室交鑰匙方案
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