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名稱：脈沖激光沉積系統(tǒng)
品牌：Neocera
產(chǎn)地：美國
型號：Pioneer 120 Advanced PLD System
Neocera Pioneer 系列 PLD 系統(tǒng)— 基于卓越經(jīng)驗的創(chuàng)新設計，利用PLD 開展了深入廣泛的研究，建立了獲得薄膜質量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應用于Pioneer 系統(tǒng)的設計之中。
? 很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能（壓力范圍可從額定初始壓強到大氣壓）。這也有益于納米粒子的生成。
? Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的最大均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。
? 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵，消除油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油泵系統(tǒng)。
? 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得薄膜質量的關鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離，以達到最優(yōu)的沉積條件。
| 項目 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A |
| 最大wafer 直徑 | 8” | 6” | 2” |
| 最大靶材數(shù)量 | 6 個1” 或3 個2” | 6 個1” 或3 個2” | 6 個1” 或3 個2” |
| 壓力(Torr) * | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
| 真空室直徑 | 24” | 18” | 12” |
| 基片加熱器 | 360°旋轉 | 360°旋轉 | 360°旋轉 |
| 最高樣品溫度 | 850 ℃ | 850 ℃ | 950 ℃ |
| Turbo 泵抽速* （liters/sec） | 700 軟件控制 | 400 軟件控制 | 260 軟件控制 |
| 計算機控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
| 基片旋轉 | 包括 | 包括 | 選件 |
| 基片預真空室 | 包括 | 選件 | 選件 |
| 掃描激光束系統(tǒng) | 包括 | 選件 | - |
| 靶預真空室 | 包括 | 選件 | - |
| IBAD 離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 |
| CCS 連續(xù)組成擴展 | 選件 | 選件 | - |
| 高壓RHEED | 選件 | 選件 | 選件 |
| 520 liters/sec 泵 | N/A | 選件 | - |
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脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。另外，PLD 是一種“ 數(shù)字” 技術，在納米尺度上進行工藝控制（?/pulse）。
? Neocera 在PLD 設備與工藝開發(fā)方面卓越的經(jīng)驗
? Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領域廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
? Neocera 不僅為客戶提供最基本的PLD 系統(tǒng)，也提供完整的PLD 實驗室交鑰匙方案